Lumina Studio 2.0 开发月报：2026 年 4 月

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本月概览

4 月是 2.0 从“底层迁移”进入“完整工作流重建”的第一个高强度月份。矢量引擎、颜色工作站、LUT 管理、校准与材料档案开始使用统一的数据和预览路径；拼图、冰箱贴、单阶段生成、大画幅和分享卡等工作流陆续形成。与此同时，3D 预览体积、会话隔离、错误日志和问题反馈入口也得到系统性改进。

重点更新

矢量引擎与预览/3MF 路径统一

SVG 从解析、遮挡裁剪、颜色匹配、网格挤出到 3MF 导出逐步收敛到同一条原生矢量管线。区域换色、自定义配方、额外颜色层和材料档案不再只改变 2D 预览，而是能够稳定带入最终模型；复杂边界失败时也增加了可打印的兜底路径。

颜色工作站成为独立编辑流程

新增 2D 颜色工作站、区域与连通区域选择、原图临时对照、自定义配方和分层预览刷新。平滑渐变被切成多种材料色时，软件会识别为渐变分组，用户可以按整组或局部区域选中并“去海带纹”，减少逐块点选的工作量。

LUT 浏览、比较与覆盖范围可视化

材料管理新增 LUT 工作流分组、LUT 对比和 LUT 详情。用户可以查看调色板、各颜色使用覆盖、色相分布和 Lab 点云，并按品牌与颜色数量选择传统 LUT。反推或自定义 LUT 也会优先使用自身调色板，降低旧设置残留造成的错配。

一键分享卡与可复现配方

预览结果可以导出带图案、材料、层序和模型设置的分享卡；重新导入后能够恢复关键配方，方便在不同设备或用户之间复现。普通 HTTP 环境缺少部分浏览器加密能力时也增加了导出兜底。

新功能

拼图与冰箱贴工作流

拼图模式补齐切割、逐块生成和 SVG 导出；冰箱贴模式加入磁铁孔、主体与底板组合逻辑。两种模式都开始接入统一预览、配方和 3MF 输出路径。

原生 SVG、单阶段与大画幅

新增原生 SVG bundle、单阶段材料工作流，以及面向大尺寸图案的分块生成。大画幅路径开始判断 SVG 的可打印边界，避免把适合矢量处理的作品错误送入低效像素路径。

8 色完整校准与 5 色配方色块

8 色校准的双页流程得到完整衔接；5 色扩展可以生成配方验证色块，并修正第二页提示、层数和基础颜色读取问题。

校准与材料

• 梯度卡生成、提取、旋转、角点顺序和黑白底方向改成更容易理解的交互；默认层高调整到更常用的 0.08 mm，并支持多次拍摄样本的重新拟合。
• 材料品牌改为可复用的可编辑下拉项，已保存档案可以直接改名；默认材料输入从自由文本改为受控选择，降低槽位名称不一致。
• 提取器在清除角点、切换页面和 5/6 色模式时会同步重置正确状态，避免上一轮识别结果污染新的校准。

矢量化与建模

• 自定义配方可以加入 LUT 中不存在的虚拟材料和额外颜色层，导出的 SVG 3MF 会真正生成相应对象，而不是只在界面中显示。
• 插画风细线不再被静默加粗，复杂几何联合失败时保留边界兜底，减少细节变形或整次生成中断。

预览与交互

• 新增 2D 与 3D 悬停检查器，鼠标指向图案时可以查看颜色、材料和分层信息；分层遮罩窗口增加跟随鼠标的放大镜。
• 3D 预览从逐像素体素改为轮廓挤出，代表性模型体积约缩小 155 倍，远程打开和浏览器渲染更快，最终 3MF 精度保持不变。
• 修复画布滚轮缩放带动整页滚动、滑块自动多跳半格、放大后光标遮挡小色块以及按钮加载状态受浏览器插件影响等交互问题。
• 转换器面板拆为核心、颜色和高级子页，帮助提示、诊断信息、展开动画和工具栏布局重新整理，常用功能不再与高级参数挤在同一长页。

切片器与 3MF

• 3MF 增加底板层高修改器，导入 Bambu Studio 后可以让底板使用独立层高；同时修复材料冲突和 Anycubic Slicer Next 无法读取预览占位图的问题。

问题反馈与更新沟通

• 应用内新增双语更新公告，按日期记录并允许用户分别关闭；更新内容不再只存在开发群消息里。
• 新增 Bug Report v2.1：提交时自动携带当前工作流、颜色模式、LUT、会话和浏览器信息；邮件不可用时保留本地 JSON 兜底，成功后继续显示工单号供复制。

稳定性、性能与基础设施

本月建立结构化日志和工作流回归门禁，覆盖提取、预览、换色、SVG、生成和多色模式；修复跨会话共享预览文件、长时间运行 worker 内存增长、过早清理生成输入和多处旧测试基线。PostgreSQL 后端只完成可切换脚手架，并未作为用户功能发布。

已知限制

• 大画幅、描边、涂层与部分建模模式仍有互斥组合，需要根据界面提示选择。
• PostgreSQL 后端和部分新预览内核属于内部基础设施，不代表 2.0 已经具备公开云服务。
• 材料档案与传统 LUT 正在逐步统一，少量旧 JSON/NPY 文件仍需要兼容路径。

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