Lumina Studio 2.0 开发月报：2026 年 5 月

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本月概览

5 月的重点是把 4 月新增的工作流做成真正可交付的完整链路。材料档案、批量生成、SVG 透明与描边、3MF 缩略图、ColorChecker 校色和 macOS 桌面体验都得到补齐。大量改动围绕“预览看到什么，最终 3MF 就生成什么”展开，并让切片器能继续识别材料、工艺和底板参数。

重点更新

批量结果合并为一个 3MF

批量生成不再只返回需要逐个导入的模型集合。成功结果会摆放到同一个热床项目并导出一个 3MF，同时保留工艺参数、底板层高修改器和材料信息；批量过大时只限制 3D 预览数量，不影响最终文件中的模型。

ColorChecker 进入校准主流程

ColorChecker 校色不再依赖单独工具，而是直接嵌入提取器和梯度卡页面。用户可以导入自定义 XLSX 参考表，确认后自动衔接提取或拟合；校色触发、设备配置预写和高度图一致性问题也得到修复。

所有 3MF 带真实封面缩略图

位图和 SVG 生成的 3MF 都会写入可识别的封面缩略图。SVG 不再显示白图或错误的分层色块，文件管理器与切片器项目列表中更容易辨认作品。

更完整的材料与配方工作流

耗材按品牌分组，支持明确选择底板材料；配方查询新增队列和验证色块板，可以一次收集多组配方并导出带图例的 3MF。材料档案会保留纯色配方、真实槽位、观赏面层序和新增层，减少白色层或底板被错误替换。

新功能

• 高保真 SVG 新增精细度设置，在默认效果不变的前提下允许用户在细节和速度之间调整。
• 颜色工作站对不超过 10 色、5 层的调色板使用精确穷举匹配，并保持相近颜色在原图中的明暗顺序，减少渐变反转。
• 分享卡加入官网二维码和“可导入 Lumina 2.0 重新生成”的说明，接收者可以直接找到教程并复现设置。

校准与材料

• 校准板色块尺寸支持 5.5 mm 等小数值；6 色 LUT 与校准板复用 Smart1296 预计算配方，避免重复现场求解。
• PETG 槽位、辅助对象、单阶段色卡和挂件环会传递真实材料名与温度配置；导入 Bambu Studio 或 OrcaSlicer 后不再轻易退回默认 PLA。
• 更新彩多屋梯度卡数据，并加入 BIQU PLA 多色材料档案；配方查询和验证色块统一按观赏面优先显示。

矢量化与建模

• SVG 透明背景、白色镂空和非零填充规则不再被误判成黑色实体；小图边缘和抗锯齿区域的杂色明显减少。
• SVG 涂层、描边、底板和单面模型朝向在预览与导出中保持一致，描边宽度会真正进入 3MF。
• 材料档案的额外配方层、渐变颜色和大画幅处理会沿用当前上下文，不再在生成时退回第一种材料或丢失层数。

预览与交互

• 透明区域统一使用棋盘格显示；首次 SVG 预览即可看到完整底板，生成后仍保留像素级混色效果。
• macOS 桌面版补齐启动、退出、Dock 图标和切片软件扫描；遇到损坏的应用包时会跳过并继续查找其它切片器。

问题反馈与稳定性

• Bug 反馈增加截图、原图、最终 3MF、LUT、耗材档案、底板选择、接口错误和最近操作记录；邮件或剪贴板不可用时均有手动兜底。
• 生成后切换 LUT、关闭源会话或可选预览失败时，3MF/ZIP 下载继续保留；分享卡、批量和材料缓存也增加失效与清理保护。

稳定性、性能与基础设施

本月恢复完整前后端回归门禁，修复矢量精度边界、SVG 缓存、材料档案桶碰撞、测试隔离和外部参考资产缺失等问题；同时开始试验新的 3D 网格内核，但默认保持关闭，不作为已经交付的用户功能。

已知限制

• 新网格内核仍为默认关闭的实验路径。
• 大画幅 SVG 暂不支持所有描边组合，界面会根据当前模式限制不兼容选项。
• 自定义 ColorChecker 参考表需要正确的表格结构和测量数据。

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