Lumina Studio 2.0 开发月报：2026 年 8 月
8 月主要完善“修改作品后继续编辑”的工作流，并处理材料叠色、底板工艺和复杂 SVG 导出的可靠性。 本页记录当月完成并合并的开发工作；安装包包含哪些改动，以对应版本说明为准。
项目保存与选区编辑
保存项目，继续比较参数
可以把原图、输出设置、全图换色和自定义配方历史保存为 Lumina 项目，之后恢复并比较不同设置或材料。 这一阶段的局部空间编辑仍有会话内限制；10 月继续补齐了局部换色、区域配方和选区的完整保存。 当前行为见保存项目与分享卡。
统一选区和画笔
颜色调整增加统一选区、画笔与检查点撤销，选中范围用边缘标记表示。不同选择工具围绕同一份选区工作， 减少“界面选了一处，生成却按另一处处理”的状态差异。区域配方应用后取消选择，也不会因此丢掉已经确认的编辑。
材料、配方与底板
- 完善动态材料层数流程，材料组合按实际层数参与匹配、预览和生成。
- 同一耗材叠层在转换、自定义配方、可达色建议及材料库查询中使用一致的模拟颜色。
- 底板厚度可调至 10 mm，深层底板增加独立填充率控制；靠近观赏面的区域仍保持实心。
- 补齐底板厚度与显色层高、半透明 PNG 颜色匹配以及大画幅底板层高修改器的处理。
模拟颜色仍依赖材料档案、校准条件和实际打印环境，不能把不同工作区显示一致理解为实物没有色差。
设备与 3MF
- 系统设置按分类整理，设备卡片、打印机图片和高分辨率显示继续完善。
- 可以选择切片软件原生打印板，并按切片软件与机型记忆板型。
- 新增 QIDI Studio 适配，具体机型和喷嘴以当前软件列表为准。
- 可选择让普通单件 3MF 沿用上传文件名；批量、拼图和大画幅保留各自命名方式。
- 不同切片器的擦料塔布局、拼图镜像偏移及单个材料槽的身份处理继续修正。
SVG 和模型预览
本月多轮处理了复杂 SVG 首次分析慢、生成时内存占用高、描边不封闭及孔洞细节异常等问题。 颜色区域和材料求解增加并行处理，并约束额外内存，避免大图因为重复中间结果过早失败。
浏览器预览开始采用更轻的模型表示，减少直接加载完整打印模型的成本。轻量预览在 9 月继续扩展到更多流程； 预览优化不会把下载的 3MF 替换成低精度展示模型。
模型贴图、浮雕与创意工坊
- 模型贴图在生成前检查底模实体，修正图案垂直移动和朝向问题。
- 高度图浮雕统一明暗与高低方向，修正高度图拖放入口。
- 工坊模块安装与管理继续完善，拼豆工作台输出可交给原生转换流程。
后续继续处理
复杂矢量边界、模型内外壳及切片精度仍需结合真实切片结果验证；9 月继续修正这些边界。 不把本月中途回退的几何方案列为最终功能，也不把性能优化写成所有文件都能达到同一倍数。
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