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Lumina Studio 更新日志

这里同时记录 Lumina Studio 的公开版本历史和 2.0 内测开发进展。

2.0 内测开发状态​

Lumina Studio 2.0 正在内部开发和分批验证。下面的内容只记录有仓库证据、已经过人工审核的进展；“正在开发”不等于最终一定发布，也不代表已经确定版本范围或发布日期。

每周开发进展​

首份周报正在整理中。

历史月报​

2.0 历史开发进展将按月审核后逐步补充，不会直接把内部 PR 流水账公开。

1.x 公开版本历史​

以下内容根据旧公开仓库的正式中英文 CHANGELOG 整理。

v1.6.3 · 2026-03-08​

  • 新增掐丝珐琅、自由配色、透明镀层、外轮廓和 2.5D 浮雕等建模能力。
  • 增强颜色搜索、连通域替换、自动颜色合并和 CIELAB 感知匹配。
  • 增加切片器集成、完整多材料 3MF、5 色扩展和大画幅等工作流。
  • 集中修复多色堆叠、模型朝向、SVG、缓存和打包兼容问题，并显著优化生成性能。

v1.5.x · 2026-02-01 至 2026-02-26​

  • 加入 6 色扩展、8 色专业、黑白灰度、双页校准与 LUT 合并工作流。
  • 完成界面重构、批量模式、图片裁剪、颜色替换撤销和孤立像素清理。
  • 改进矢量模式、小特征保护和底板分离，并持续优化大图和颜色映射性能。

v1.4.x · 2026-01-20 至 2026-01-31​

  • 引入多种建模模式、色彩量化、智能预览降采样和浏览器崩溃保护。
  • 完成动态中英文切换、系统托盘、自动端口与本地输出目录等桌面体验。
  • 后续整合为高保真与像素艺术两种主要建模模式。

v1.3 · 2026-01-18​

  • 增加双语界面、实时 3D 预览以及 CMYW/RYBW 双色彩系统支持。

v1.2 · 2026-01-17​

  • 将校准板生成器、颜色提取器和图像转换器合并为统一应用。

v1.0 · 2026-01-15​

  • 首次公开发布校准板生成、计算机视觉颜色提取、LUT 图像转 3D 和 BambuStudio 兼容 3MF 导出。

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